先进光学制造技术范例6篇

前言:中文期刊网精心挑选了先进光学制造技术范文供你参考和学习,希望我们的参考范文能激发你的文章创作灵感,欢迎阅读。

先进光学制造技术

先进光学制造技术范文1

在半导体封装技术发展史上, 1990年成立的Tessera以其授权的封装技术(CSP封装到最新的3D IC封装)成功居于领导地位。为了拓展业务成长的空间,该公司在2005年间切入手机相机模块市场,藉并购技术独到的光学封装与软件厂商,状大在光学技术领域的发展地位。为能了解Tessera何以由奠基的IC封装业跨足光学领域,该公司如何运筹帷握产品策略的成功,透过本次专访两大部门主管,相信能有清楚的轮廓。

Q:可否请您介绍Tessera的公司背景,特别是Tessera如何从IC封装厂商成为技术授权厂商?为何之后Tessera决定进入光学领域?

A:自1990年成立起,Tessera便以自家研发的芯片级封装(CSP,Chip-scale Packaging)技术,也就是所谓的Tessera Compliant Chip (TCC)技术,坐稳IC封装领导厂商的地位。由于此项创新技术能让芯片在封装前后尺寸几乎没有差别,因此广泛获得全球半导体厂商的采用。上述背景让Tessera了解其核心价值是开发先进技术,并将其广泛地商业化,于是自1994年起,Tessera开始授权其封装技术,并与半导体制造领导厂商合作,以外包方式生产新一代创新电子产品。

为了进一步的技术延伸及业绩增长,Tessera决定进军高产量且增长快速的影像与光学市场,让我们有机会发展并为电子产业领导厂商提供具突破性的技术。这些厂商中,有的已经获得TCC技术的授权。2005年12月,我们开始一项以并购与发展核心互补科技为基础的策略,目标锁定高产量的手机相机模块市场,提供“一次购足”的影像及光学解决方案。

Q:Tessera过去在封装领域的专业知识是否能应用于光学领域?如何应用?

A:答案是肯定的。为因应业界对电子产品更小、更快、更多功能的需求,Tessera建构了包括材料特性、电气学、温度、机械建模与仿真、封装、模块与系统设计、原型与测试、组件与产品可靠度,及失效分析在内的完整工程能力,以确保能持续为客户提供解决方案。这几年来,我们充分运用以上能力来增进我们核心的TCC技术,以创造更多元的创新封装技术,而这些能力也非常适用于满足影像领域的需求,例如为晶圆级光学制造厂商,设计新的光学透明可回焊材料,并加以优化;或将我们最新的智能型影像或光学技术

紧密整合至手机的晶圆级相机模块中。

此外,我们从在半导体封装领域的多年经验中,累积了许多重要的学习,包括开发可大量生产的商业化技术,并配合制造相关的基础建设,以及如何成功地将这些技术授权给高量产的厂商。我们将这些能力运用在影像与光学市场上。在OEM厂商利润下降与客户研发预算缩减的大环境里,身为一个无所不在的授权厂商(意思是我们几乎授权给每个人),意味着我们的客户与获得授权的厂商,不必冒投资风险就能运用到最新的技术。事实上,我们的市场相当广泛,因为我们无所不在,且不局限于扮演单一企业内部的供货商。这代表我们能够在特定领域投资更多,因为潜在利润更高。过去4年里,我们透过一连串的策略并购与发展,为这个市场带来突破性的先进技术。

Q:随着移动装置的功能越来越多元化,厂商面临整合不同组件的挑战。从Tessera在产业链的位置上来看,您认为Tessera能提供什么技术来解决这项需求?

A:我们将电子装置微型化视为Tessera的核心能力,并发展了大量的技术方案与能力,以满足业界对电子产品在效能、功能,与外型持续增长的需求。我们最初的芯片级封装技术,又称TCC技术,一直以来都在手机微型化领域扮演关键的角色。此项技术平台让手机从90年代初期的低功能“砖块”电话,转变为现今的超威型、高效能智慧手机。

TCC技术能将Flash、SRAM、DRAM、基频处理器、应用处理器和电源管理芯片等许多组件同时封装在手机里。多年来,我们架构了这个核心封装平台,并设计了许多创新的商业化封装解决方案,例如:能够有效率地将3D多芯片整合至单一封装里的uZ多芯片封装技术、新一代的uPILR封装平台技术,以及具备实体晶圆级封装能力的Shellcase MVP技术。目前市面上超过35%手机中的影像传感器,都是采用Shellcase MVP技术。

透过一连串并购与大量的研发投资,Tessera针对光学与影像领域,整合出包括硬件和影像增强技术在内、“一次购足”的相机模块技术。这是因为我们看到数字相机和手机整合的趋势,并以技术授权的方式实现这个趋势。我们的OptiML晶圆级相机技术可建构出外型最小、成本低廉的相机模块,范围涵盖从VGA到百万画素等级。同时使用可回焊材料,让相机模块表面黏着于手机印刷电路板,以代替昂贵的弯翘连接器。

我们的OptiML Focus景深对焦技术、OptiML UFL和OptiML Zoom技术,能在不移动零件的前提下,提供自动对焦与变焦功能,为移动装置带来高可靠度、低成本与小型化的优势,并提供较佳的低光源拍摄效果,协助照相手机克服低光源拍摄的主要挑战。

最后,我们原本针对数字相机开发的FotoNation影像增强技术,也以硬件、软件及混合等各种形式,满足照相手机在性能及功能上的需求。以往在数字相机才有的红眼与金眼侦测和修正、脸部追踪、微笑与眨眼侦测,以及脸部美化等高阶功能,现在也能运用在照相手机上。我们持续将上述技术优化,以达到移动装置在尺寸、功耗与简易操作的需求,同时又能维持数字相机的效能与质量。我们非常高兴透过整合Tessera的各项技术,我们已经可以达到上述需求,同时,我们也已推出包含脸部追踪和微笑侦测等功能的单片VGA芯片级相机。当相同的技术结合OptiML Focus时,还能提供网络视讯应用等更佳的效能。

FotoNation FaceTools

Q:请您介绍Tessera的CSP技术和POP技术。两者之间有何差异?能否请您介绍μPILR技术?

A:在90年代初期,Tessera的创始者开发了TCC基础封装技术,该技术现在被广泛地运用于半导体产业。Tessera从系统层面着眼,针对电子产品微型化进行大规模研发,特别是紧密的组件互连,以及3 D先进基板封装技术的延伸运用。

Tessera新一代的μPILR先进互连解决方案封装技术,克服了互连技术在间距、外型、效能与可靠度上的诸多限制。PILR解决方案使用低高型、针脚状接点来代替现今芯片级、多芯片和层迭封装所采用的焊球。特别的是,PILR层迭技术能满足对于增加堆栈式封装间链接的需求,而不需牺牲封装尺寸。堆栈式封装日益重要,能够满足移动装置持续对增加功能的需求。这是因为它能够减少焊球间距,或在μPILR层迭封装时,减少铜制针脚间距。缩小接触间距通常会对可靠性效能(特别是跌落测试),产生负面影响,降低组装良率,并使在层迭组装中,控制顶部与底部封装的间隔高度,变得更加困难。Tessera的μPILR层迭解决方案,能够巧妙地控制更细微间距间所需的距离,并同时提高可靠度,而不需底部填充。

如先前所提,制造相关基础建设的设立,对新的封装技术能否被广泛采用而言,十分重要。在这方面,台湾地区的景硕科技最近获得Tessera μPILR基板技术的授权。我们正进行紧密合作,以协助我们的客户减少半导体封装尺寸,并增加效能与可靠度。这些都是μPILR封装技术所带来的优势。

Tessera也正在研发采用μPILR技术的覆装式芯片方案,其焊垫间距低于100μm。具体而言,我们利用铜质针脚,作为封装基板与半导体芯片间的互连,代替传统覆装式芯片的焊锡凸块。这种方法能够解决在微间距覆装式芯片基板方面,越来越常遇到的焊垫良率问题。

Q:请您介绍Tessera的晶圆级相机封装技术与应用领域。这项技术是否有其他发展空间?

A:Tessera的OptiML晶圆级相机技术,在整体系统成本、尺寸及可靠度各方面,对传统相机模块产业造成很大的影响。但真正的商机来自于当这项技术与我们的诸多影像增强技术结合后,激荡出的各种“智能模块”解决方案。这个构想虽然尚为落实,但却能引发一连串具体的作为。智能模块包含一个晶圆级相机模块和各种影像增强解决方案,由于一次结合了许多功能与技术,该方案会比这些技术被单独运用时更具成本效益、效能更高,且尺寸更小。

智能模块的应用实例不仅包括以影像撷取与终端显示为主的手机、网络视讯、笔记本电脑和汽车等传统应用,更可涵盖需要变焦、脸部追踪与微笑侦测、非机械自动对焦与变焦,以及较佳低光源效能等创新功能的电视遥控、智能广告、保全与家庭自动化、玩具与游戏等应用。智能模块为上述应用带来全新的性价比,大幅拓展它们的潜在市场。想象一个低于2美元、结合了脸部追踪、微笑侦测,和/或较佳低光源效能的相机模块吧!

Q:在电子装置微型化的趋势中,Tessera不管是在IC或是光学领域都拥有满足市场需求的技术,可否请您谈谈这些技术在市场上的应用?

A:手机应用是Tessera技术方案锁定的最大单一市场。目前,全球手机市场约有超过10亿台的市场规模,其中绝大部分都包含了至少一项Tessera技术,有可能是针对基频或应用处理器的芯片级封装技术,或是针对内存堆栈的多芯片封装技术,又或针对影像传感器的晶圆级封装技术。举例来说,现今超过1/3的手机相机模块,采用Tessera的晶圆级封装技术来封装影像传感器,以便拥有较低的模块封装成本。其他的手机相机模块目前虽然大多采用板上芯片(COB),但正逐渐转移至芯片级封装(CSP),这也为Tessera创造了大量增长机会。

除封装外,Tessera能在一片8英寸晶圆上同时生产数千个镜片的能力,为镜片模块带来全新的规模经济,减少对半自动校准的需求,进而降低成本与尺寸,特别是某些能够堆栈数片晶圆的厂商,在结合Tessera的技术后,便可同时制作2或3个组件(4或6个表面)的镜片堆栈。上述技术可能被应用在各种前所未有的领域中,包括外型不断缩小的手机,现在被期待能具备许多数字相机的功能;监视摄影机能利用内建的脸部识别技术,来避免不必要的警报;玩具能够辨识小孩的脸或微笑,像变魔术一般做出适当响应。

Q:Tessera在发展技术时,曾遭遇过哪些瓶颈?如何克服?

A:我们授权的技术解决方案分为基础建设和快速导入设计(design-in)两类。

在基础建设解决方案上,由于芯片级封装、晶圆级封装和晶圆级光学等硬件相关技术,在被广泛应用前必须持续投资大量的制造相关基础建设。因此,我们在说服客户授权之前,必须先充分展示此项技术的价值与量产实力。为了增加客户的兴趣,并缩短基础建设的建置时间,Tessera推出了“产品推出服务(Product Launch Service)”。透过生产原型或小量生产的方式,不仅让客户亲眼看见并亲身使用该项技术,更向潜在客户证明该技术是可行且能够被制造的。我们最近已将此项服务运用在我们的单片VGA晶圆级镜片上,并从2009年1月初开始制造。

在基础建设成功的架设后,我们的OptiML Focus、OptiML Zoom、红眼与金眼侦测/修正、脸部追踪、微笑侦测等导入设计(design-win)解决方案,便能大量利用既有的基础建设与供应链,快速地被搭载。

Q:可否讨论Tessera在2009年的市场规划及技术发展蓝图?

A:Tessera持续研发新技术与必要的基础建设,以持续在市场上为客户提供支持。我们积极地将μPILR技术授权给基板厂商与封装组装厂,为层迭封装应用提供高量产的基础建设。同时,我们也针对微间距覆装式芯片应用,投入大量研发努力,来优化PILR技术。

在影像和光学范畴,我们将持续为数字相机和手机市场,开发影像增强技术。像最近推出的脸部美化及OptiML Zoom技术,就结合了我们用在VGA及百万画素解决方案的产品推出服务,成为可供授权的VGA及百万画素晶圆级光学与晶圆级相机解决方案。

此外,我们会将目标市场从数字相机与手机相机,往外拓展到网络视讯、笔记本电脑及电视应用,也会针对既有的平版与并行通讯市场和新应用,强调我们的高效能晶圆级光学。

先进光学制造技术范文2

【关键词】机械制造;柔性;信息;自动化;对策

当今世界的竞争主要是综合国力的竞争,制造业是现代国民经济和综合国力的重要支柱,其生产总值一般在一个国家国内生产总值占很大比重。以机械制造技术为代表的先进制造技术 ,对这个国家的技术经济发展起着至关重要的作用。

一、机械制造技术的发展趋势

在当今世界机械制造技术的迅猛发展中,我们一方面必须依靠信息科学、材料科学来改进制造水平;另一方面信息科学、材料科学也必须依靠制造技术来取得新的拓展。因此现代制造技术已经颇具规模,它的系统包括了物质流、信息流和能量流等。它也是集机械、电子、光学、信息科学、管理学等为一体的产业集合体。我们将从以下几个方面描述他的发展趋势。(1)自动化方面。自动化技术开发和应用有效地节省了大量的人力资源,还可以去代替人完成一些具有危险性和损伤性的操作。这种跨时代的技术大大提高了生产效率,满足了市场不断发展的需要。随着科技的发展,自动化技术也在自我完善和更新,早期的“全自动化”、“无人化”的概念已经被取代,未来的自动化技术将会更加重视人在自动化系统中的作用。同时自动化技术已经开始慢慢的普及,逐步走进中小型企业,以经济实用的优势不断满足发展的产品多样化和个性化需要。(2)精密度方面。精密和超精密加工技术是当今机械制造技术发展的趋势之一。精密工程、超精密工程、微细工程和纳米技术被称为现代制造技术的基础,在民用工业中有广泛应用。(3)柔性化方面。柔性化是指机械制造业对各种外界因素的适应能力或是产品适应市场变化的能力。随着市场的不断发展,多型化、高参数和高可靠性的产品应接不暇。人民生活水平的提高促使产品更新换代不断加快,柔性化的思想应运而生。此能力是建立在对市场需求认真调查和正确分析的基础之上,通过对产品的技术更新来达到人们的需求。针对柔性化的发展趋势,最具代表性的就是美国提出的“灵捷制造”,它的主线就是高度柔性化生产。(4)最佳化方面。现代社会各方面都强点最优配置,制造业也不可避免,这里的最优配置不仅是指加工参数方面,而且是指影响制造技术的各个方面,包括环境资源、人力资源、信息资源以及组织管理等等,从而增强产品的其竞争力。具体表现为制造系统在不断适应市场环境过程中,不断的反馈有用信息,持续对系统结构进行适应性改良,对系统内部各模块进行重组,以达到模块的最佳组合,发挥制造系统最佳效益。(5)集成化方面。随着市场的全球化接轨,市场竞争也日益激烈,整个市场处于一个持续变化而不可预测的状态。激烈的竞争在推动了社会经济的迅猛发展的同时,也给企业的生存和发展带来了全所未有的机遇。为了抓住这一机遇,科学家开始重新考虑应用集成化的开发思路。他们用系统工程理论的方法将各种技术、物料、信息等实现集成。换句话来说,现代化的集成不仅仅是技术功能的集成更是技术经营和人力资源的集成。

二、我国机械制造新技术改革的浅见对策

我国的制造产业最先是通过技术改造和引进国外先进制造技术发展起来的。但和先进国家的制造技术相比还存在着很大差距。具体表现在技术改造投入不足、研究开发能力薄弱、制造业产品落后、信息含量低、更新换代慢等方面。以至于产品总体上缺乏国际竞争能力。(1)人才是第一生产力。要发展和推广先进的制造技术、实施先进的制造模式人才是先决条件。科技人员不仅要精通制造技术而且要了解市场营销、经营管理和经济法。这要从高校培养人才的模式开始慢慢的推行与改进,尽力去培养一支了解和掌握机械工程科学的前沿技术人才,加速先进制造技术的推广和实施,为市场需求服务。(2)加强政策与法规建设。政府要加强宏观调控机制,以法律的道德的手段预防市场上的不法分子。国家必须制订科学的制造产业规划和制造技术进步的总体规划,以及相应的法规政策规范市场竞争。避免浪费资源的事情发生,尽可能减少和避免市场盲目竞争造成的损失。(3)建立并发展我国自主的NC、MC、CAD、CAM、FMS、CAT、CIM、IMS等制造技术。结合我国市场的实际情况,有组织有计划的引进先进制造技术。对于引进的科学制造技术进行消化、吸收和改良,目的在于开发创新出适合我国国情和生产模式的新技术。(4)提高制造业现代化管理水平。现代企业管理的核心是信息管理、物质管理、质量管理、生产过程管理和市场信息管理,企业在加强人才的培养同时也必须看准市场与国际接轨,加快现代企业制度改革,为先进制造技术的发展奠定良好的基础。

参 考 文 献

先进光学制造技术范文3

关键词:激光;加工;切割

中D分类号:TB

文献标识码:A

doi:10.19311/ki.1672-3198.2017.16.111

1 激光综述

“激光”曾有多个不同称呼,如激`光射器、光受激辐射放大器等。钱学森在1964年首先提到这个词,它可以体现出受激辐射的科学含义,且能形象的使人联想到它是一种很强的光。由于它的形象且简洁,这个名字受到了大多科学家们的喜爱,沿用至今。按照通常意义上看,它涉及的方面包括:

(1)激光加工系统。包括激光器、光传导装置、生产设备、检控系统。

(2)激光加工工艺。包括激光焊、激光切分、热处理、穿孔和微处理加工等工法。

近几年来,随着科学家和学者们对这种技术不断的探索和钻研,新的激光技术涉及了很多方面。目前有一种叫作二极管泵浦金固态激光器的新型激光器,它标志着新一代激光器的改革创新;对采用精密激光生产制造的微处理方式钻研;制造适应生产特点的专用配套激光机床和相对应的激光器,提高生产周期以提高生产效率;生产加工系统智能化提高,在生产加工的基本功能下加入实时监测、报警的专家化系统功能,这种形式必然会长期发展下去;研究检查测定激光设备生产效率和影响质量的参数和调节;激光切割分离的应用,如在航空、轮船、汽车生产和特殊材料加工行业的应用;采用激光方法进行的焊接。对在加工过程中,不同材料焊接使用的参数跟踪检查,从而熟悉了解激光对各种金属及非金属材料的焊接方法和各项参数;用激光对产品表面或加工零件做热处理改变组织。结合CAD/CAM、材料物理组织结构,表面热处理加工等技术,利用激光提高这方面的生产能力;对加工生产的辅助装置以及激光束质量的研究。分析加工生产中需要怎样的光束,需要何种的质量,以及分析加工中的光学监控检查系统和辅助工装设计的要求;对利用激光快的特点使材料迅速达到自己想要的形状,使激光的使用范围大大扩大;采用激光治病:它在此领域的使用包括光医治和光检测两种,光医治中把激光当成一种能量,光检测中把它作为一种可以传递消息的工具;激光在物质化学中的应用。这一方面对激光的利用具有十分好的前景,但是现如今还处于起步阶段。比如利用激光化学制造药品,它可以使药的不同成分快速合成,并且可以将其中的不利成进行清除,所以这样生产出来的药品不仅安全可靠更有效,而且价格也比较低。还有在生活中对各种开关、信号传输线路或用电电路的调整和变动也可以通过激光技术实现。

如今,我国积极倡导科技领导生产,绿色技术,科学发展的方式。激光这一类技术既适应现代科学发展特点又不会污染环境的资源利用是具有很大研究价值的。如今,我国科学研究机构已经把激光技术作为高科技继续进行研究了。激光使所有的科学家看到了科技发展的美好前景和创新机会,它必然能够带给我们更大的动力。另一方面如今在世界上光电技术是被公认为的研究速度最快,最具有科学研究价值,也是研究前景最好的科学高新技术。而且激光技术又是光电科学技术的研究基础性方面之一。21世纪的科学研究进程中,激光技术结合各种产业技术、光电技术、通信技术必然会推进高度带宽、海量通信、改革性照明技术的快速发展。在经过了微电子时代,激光生产在光电领域一定会再一次促使科技的力量更加壮大。

2 激光发展方向

2.1 特快且强性激光

这种激光最大的特点是速度快功能强,最大的代表是被称为飞秒激光技术的钻研领域。这种技术是激光中比较特别的研究技术和方式,包含了三个方面:极快方面、极强方面和极精方面对飞秒技术激光的应用研究。在这当中,超精细方向的飞秒技术是现在全球激光技术和光电结合技术研究中最为先进和意义重大的研究课题。

2.2 激光生产技术在军事领域的利用

在现代的军事战争中,激光测距仪是使用很广的一个工具,在大炮发射装置中利用这种工具可以很大程度的提高发射位置方向的精确度。雷达上采用激光,由于发射激光过程中不容易发散,方向精确,所以相比于无线电技术的雷达测量精度会更加的准确。并且运用激光技术的雷达避免了盲区问题,因此在导弹一开始发射过程中的监控尤为合适。但是由于激光在传输过程中会受到空气的干涉,所以这项技术在很大空间的应用不适合,目前只适合于作为无线电技术传输的一个更好的补充。

2.3 通过气体对激光进行研究

现在在科学上有一种技术是利用激光对各种激活气体介质的气体激光器,它是激光器技术高水平的一项代表。它的最大的优点就是被激活气体很均匀,这样可以得到优良的射束,也可以取得一种激光波长它是从紫外线到红外线的连贯或脉冲的一种波长。如果在研究中需要从同一台激光器上取得许多种不同的激光波长,那么可以把特定的一种气体换成多种气体组合的气体。

3 激光切割

激光切割加工是激光技术中发展最迅猛的,是综合了光学、机械加工和电学等多方面学科的一项综合加工技术。光纤激光切割技术在近些年出现,凭借着与其它传统机械加工技术相比无可取代的优势迅速发展起来,成为激光加工技术中最先进的技术之一。很多企业早已经开始了解开发研究这项技术,并且不断对比光纤激光切割技术和其它各种不同切割技术的区别,最大的开发激光技术的优势。

切割最根本的原理就是通过热源对加工零件进行加热融化气化,以达到切割分离的过程。目前通常的热源加工分三种:火焰、等离子和激光束三种切割方式。其中利用激光对工件进行切割成形技术可以加工特别复杂又精密度很高的零件,这是其它加工方式无法做到的。在激光切割中,利用光纤进行激光传输的设备更加先进精密,是目前机械加工行业普遍关注的加工方式。光纤传输激光切割不仅有其他切割方式快速高效的生产效率和优良的截面质量,而且操作过程简单便捷,环境干净卫生,设备方便维护。由于它先进高效方便的加工特点,激光切割加工方式是未来生产制造的一个研究方向,有相当大的研究空间。

通常在生产加工中常用的有两种激光切割设备,台式和龙门搭载式。前者是常见于加工钣金类零件的切割机,适合于比较薄的板材切割,涉及医用设备、饰品加工、农业生产等各个方面。它是把激光器和切割工作台分离开,利用光纤把激光从激光器中传输到工作台的切割头上实现加工。根据切割工作台内部的结构又可以分成多种不同的形式切割。龙门搭载式切割机相比来说,最大的切割特点是可以切割比较厚的工件,最大可以切割25mm的厚度工件。它的激光器和切割工作台做成一体,这样就避免了激光传输线路长度的限制。从而龙门搭载切割设备的切割零件长度和宽度可以很大,最大的加工面积可以加工到宽6m长几十米的工件。所以这种切割机特别适合于在大型工程生产中使用,比如轮船,飞机,大型车类产品中的使用。

虽然激光切割有很多的生产加工优势,但是在操作过程中还是有一些要注意的地方:1、由于激光的特质,在激光切割作业中会产生强烈的光线,人眼不可以长时间观看,以免伤害眼睛。激光束具有很大的能量,如果人体接触到,会产生严重的烧伤,所以要避免激光和人体接触。2、切割设备上的激光聚焦镜里有一种晶体ZnSe,它对人身体有害,所以不可以经常触摸透镜。如果镜片损坏了需要更换,坏掉的镜片也不能到处乱扔。3、切割过程中如果要切割铝或者其他金属合金,设备周围会产生大量的粉末灰尘,避免吸入伤害身体。操作者需要戴口罩。另外很多有色金属都属于高反材料,加工过程中如果不采取保护措施很有可能会由于激光反射损坏激光头。

参考文献

先进光学制造技术范文4

关键词:SiC反射镜 C/SiC复合材料 制备工艺 轻量化

1 引 言

SiC作为反射镜材料具有重量轻、热稳定性好、制备工艺相对简单、成本低、光学加工性能好、光学性能优异等特点,已经成为反射镜的首选材料[1]。目前对SiC反射镜的研制取得了一定的成效,并且已经在一定的范围内得到了应用[2~3]。C/SiC复合材料密度更小,减重效果更好。据悉,目前空间系统的发射费用大于20,000美元/kg。光学系统减轻100kg的重量,有效载荷能减少250~300kg,不但节省了发射费用,而且提高了空间探测器的飞行性能[4]。另外,C/SiC复合材料具有CTE、热导率和机械性能各向同性、抗化学腐蚀、在应力下无老化和蠕变以及成本低、结构可设计等特性。因此,SiC及其C/SiC复合材料被认为是今后反射镜材料的发展重点。本文从SiC及其C/SiC复合材料的制备方法出发,介绍了SiC反射镜镜坯的研究进展。

2 SiC反射镜镜坯制备工艺

SiC反射镜坯体的制备方法很多,目前已经应用或有望应用于制备SiC反射镜镜坯的方法主要包括:常压烧结法、反应烧结法、热(等静)压烧结法、液相硅浸渍法、先驱体转化法和化学气相渗积法等。

2.1常压烧结法

该方法又称无压烧结,是美国GE公司的S. Prochazka[5]在1974年发明的。它是将SiC粉末、有机粘结剂以及适当的烧结助剂充分混合模压形成素坯,具有一定强度的素坯经过相应的机械加工做成所需的形状,最后在一定温度及常压下烧结。由于SiC的扩散活化能极低,纯SiC粉末的烧结是十分困难的,需要的温度也很高(>2000℃)。一般来说,常压烧结SiC都要加入一定量的烧结助剂如B、C、B4C、Al2O3、MgO、Y2O3等。烧结助剂的作用是提高界面或体积扩散能,或者在一定温度时产生一定量的液相,从而降低烧结温度,提高致密度。采用常压烧结法得到的SiC材料为均匀单相材料(主要为α相),工艺简单、成本低,易获得形状复杂的产品。但相对而言,烧结温度高,对设备要求也较高,而且采用常规的常压烧结法获得的碳化硅材料坯体收缩较大(15%~20%),难以达到完全致密(通常致密度为96%~98%理论密度),从而导致抛光精度不高,表面存在大量的气孔缺陷[6],通常需要进行表面改性。而且当SiC部件大型化时,常压烧结法对设备的要求较高,烧结过程需精确控制。

法国的Boostec公司是目前世界上最大的采用常压烧结法制备SiC反射镜的公司,形成了一套完整的制备SiC轻质反射镜的工艺,包括反射镜坯体的烧结、加工和全SiC太空望远镜系统结构件的焊接等[2~7]。该公司制备的SiC材料致密度>96.6%、密度为3.10~3.19g/cm3,成分为:SiC>98.5wt%、B

日本的Mitsui Zosen/Nikon和Toshiba Ceramic/Canon分别制备了常压烧结SiC+CVD SiC涂层的反射镜[15],尺寸为800mm×50mm和1000mm×140mm,表面涂覆Pt后粗糙度分别为3.1?和5.3?。日本物理化学研究所测试结果显示,这两种镜片都适用于同步辐射加速器的高热载荷、高辐射的工作状况。

我国科学院上海硅酸盐研究所采用常压烧结法制备SiC反射镜取得了重要进展[16]。目前已经制备出直径520mm的SiC反射镜,经过表面镀Ag后,在可见光区域的反射率达95%以上。

2.2反应烧结法

反应烧结法制备SiC的研究是一个比较成熟且具有较长发展历史的工艺。它是由美国Carborandum公司的P. Popper等[17]研制的。反应烧结法是目前国内外报道最多、最为常见的SiC镜坯的制备方法。按起始素坯中是否含有SiC颗粒,可将反应烧结碳化硅分为反应结合碳化硅(reaction-bonded silicon carbide)和反应形成碳化硅(reaction-formed silicon carbide)。反应结合碳化硅工艺采用熔融的具有反应活性的Si与素坯中的C反应生成新的SiC。新生成的SiC原位地结合素坯中的原有的SiC颗粒,并逐渐填充剩余的孔隙,最后得到近乎完全致密的SiC材料。这种方法制备的反应烧结碳化硅中一般含有粗大的碳化硅颗粒,且自由Si的含量较高。但是此种方法工艺过程简单,且成本较低。反应形成碳化硅是指素坯中只含有C,这种多孔C的素坯与Si反应从而得到SiC材料。采用此法制备的SiC,其显微结构比反应结合法均匀。缺点在于制备过程较复杂、成本较高,且在热裂解的过程中有大量的气体放出,素坯易开裂,较难制得大尺寸的制品。

反应烧结SiC的优点为:工艺简单、烧结时间短;烧结温度和成本远低于常压烧结和热(等静)压烧结SiC;可以实现近净尺寸烧结,避免后续加工,适于制备形状复杂的产品;SiC材料近乎完全致密。缺点是由于反应受扩散范围的影响导致部分Si反应不完全,因此生成物中残留有游离Si,含量一般为8%~12%,从而造成产物中存在两相结构(SiC+Si)。当样品直接抛光时,由于SiC和Si的硬度不同,导致SiC和Si的抛光速率不同,难以获得高质量的光学面形,导致表面缺陷相的不均一[18~19]。要获得较好的光学加工表面,通常也需要进行表面改性。

由于反应烧结法简单易行,因此国内外大多采用此方法制备反射镜坯体。美国的Xinetics公司[20~23]从20世纪80年代初开始从事SiC反射镜的制备。90年代中期成功研制出一种CERAFORM品牌的反应烧结SiC。该公司生产的SiC反射镜直径为500mm、面密度为20kg/m2,抛光后表面粗糙度为λ/15(λ=632.8nm),经过低温测试,面形变化为0.027μm。同时,还制备了直径为1m、面密度为30kg/m2的后开式的CERAFORM轻质SiC反射镜。目前,该公司正着手研制直径为1.7m和2m的SiC反射镜。

美国的SSG(Science Software Group)公司[24~29]所研制的反应烧结法制备的SiC反射镜已经应用于MICAS(Miniature Infrared Camera and Spectrometer )太空望远镜和ALI(Advanced Land Imager)太空望远镜等。这两种太空望远镜都是美国NASA的NMPDS-1(New Millennium Program Deep Space-1)项目的重要部分。MICAS望远镜孔径为10cm、质量为2.8kg,整个系统均由RB SiC组成。其中SiC反射镜的PV值为0.7λ、RMS为0.13λ (λ=632.8nm)。低温测试显示,该RB SiC反射镜具有极好的热稳定性。而ALI太空望远镜的主反射镜和三级反射镜也采用RB SiC材料,主反射镜直径为12.5cm、面形精度

美国的Litton Itek公司和HDOS(Hughes Danbury Optical Systems)公司采用反应烧结SiC材料制备轻型反射镜。Litton Itek公司的Robert S. Breidenthal等[31]采用反应烧结法制备了尺寸为1125mm×825mm的SiC反射镜。抛光后面形精度为λ/20(λ=632.8nm)、表面粗糙度为3nm,并通过了低温(4K)测试[32]。HDOS公司[33]采用反应烧结法制备的后开式结构的RB SiC反射镜,尺寸为1.1m×0.8m、重量为27kg,且已在坯体上得到了小于1nm的光学表面。

俄罗斯的研究主要以空间光学研究院(S. I. Vavilov State Optical Institute)为主。该院研制出的Sicar材料,它是以SiC和Si组成的两相材料,抛光后可获得10~20 的表面粗糙度。该研究院采用Sicar材料制备的三镜片去象散望远镜[34]的主反射镜直径为630mm、质量仅为13.5kg;而二级反射镜直径为160mm、质量为0.65kg。Paul Robb等[35~36]对采用Sicar材料制备的直径为170mm的蜂窝结构的反射镜以及308mm×210mm的后闭式结构的反射镜进行了低温(6K)测试,其结果显示:由室温降至液氦(6K)温度时,其反射镜没有发生形状扭曲和滞后的现象,面形精度的变化也处于误差范围之内,为±0.02λ~±0.04λ(λ=632.8nm)。

日本在采用反应烧结法制备SiC反射镜方面的研究发展十分迅速。由Toshiba和 NEC-Toshiba Space Systems联合开发的NT-SiC材料采用反应烧结法制得[37]。这种材料在烧结过程中收缩率

国内采用反应烧结法制备SiC反射镜的有哈尔滨工业大学、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院光电技术研究所等。哈尔滨工业大学的张宇民等[39~40]采用反应烧结法制备SiC反射镜,已经制备出直径从160~650mm的具有轻量化结构的反射镜,轻量化率可以达到70%、面形精度

2.3热(等静)压烧结法(HP)

热压烧结法是由美国Norton公司的R. A. Alliegro等[46]在20世纪50年代中期研制的。其主要方法为:把SiC粉料和烧结助剂混合后放入一定尺寸的模具(通常为石墨模具)中,通过施加单向压力或等静压力烧结。此法获得的SiC材料属于均匀单相材料(主要为α相)。样品收缩率比常压烧结的小,致密度相对较高(>98%理论密度),具有优异的机械力学性能。其光学加工精度较常压烧结法制备的SiC高。与反应烧结法和化学气相沉积法相比,HP SiC热导率要低,热膨胀系数略高。HP SiC最主要的缺陷是样品形状单一。另外,HP SiC用作反射镜材料时,需要结合SiC材料的封接技术,封接技术的采用会带来界面应力和形变等一系列新的问题。

Cercom公司的研究者以Al基复合材料作为烧结助剂,采用热压烧结工艺制备出显微结构均匀、尺寸为50cm2的SiC烧结体,经过抛光后表面粗糙度仅为0.875nm。另外,该公司研制的HP SiC的粘接技术也相当成熟,这为HP SiC材料制备形状复杂的反射镜提供了保证[47]。

美国的SSG公司[48~49]为NASA的GEO计划制造的轻量化扫描反射镜,采用热压烧结SiC为镜坯,尺寸为0.5×0.3m,重量为2.2kg,表面抛光后粗糙度仅为5?。后又在HP SiC表面涂覆Si涂层,为美国国防部高级研究计划署(ARPA)和NASA提供偏轴三镜片去象散可见光望远镜,重量为14kg,并通过了低温测试[50~51]。后又为法国阿尔贡国家同步辐射实验室提供了表面粗糙度为2~4?的HP SiC冷却镜,并通过了热性能和真空兼容性的测试[52]。

2.4液相硅浸渍法(LSI)

液相硅浸渍法是将短切C纤维或碳毡用酚醛树脂或其它裂解C先驱体真空浸渍,干燥固化后,在1000℃左右裂解,然后将裂解后的样品在2100℃左右的真空炉中石墨化后得到C/C复合材料。然后将C/C复合材料置于高温真空炉中,固体Si在1600℃下熔融成液态Si,通过多孔C/C坯体中的气孔的毛细作用渗透到坯体内部与C基体反应得到C/SiC复合材料。

其优点是通过C/C材料液相渗硅后的连接作用,可以制备出大尺寸、形状复杂的结构组件,工艺时间短,材料来源广泛,可以近净尺寸成形,成本较低。其缺点是熔融Si会与C纤维发生反应导致C纤维性能的下降。同时,C/SiC复合材料中残余的游离Si也会导致复合材料抗蠕变性能下降。

德国Donier公司[53~54]采用该法制备的C/SiC复合材料商品名为Cesic,该材料力学性能和热学性能较好,被用作轻质反射镜的镜坯材料。反射镜的尺寸不一,直径从150mm到1000mm的都有。如制备的直径为630mm的空间望远镜主镜,重量仅为4kg。

日本发射的SPICA空间望远镜主镜除了采用直径3.5m的Sintered SiC反射镜外,其它的次镜和结构支撑件均采用C/SiC复合材料,并且已经制备出直径为160mm的球面镜,坯体直接抛光后表面粗糙度优于20nm[55~57]。

美国MER公司的W. Kowbel等[58]采用此法制备出的C/SiC复合材料,热膨胀接近于零。他们已经制备出了两款直径为0.5m的反射镜,面密度分别为2kg/m2和3kg/m2,分别用于红外和可见光波段。

2.5先驱体转化法(PIP)

先驱体转化法又称聚合物浸渍裂解法或先驱体裂解法,它是近年来发展起来的一种纤维增强陶瓷基复合材料的制备工艺。该工艺是将SiC粉末和先驱体(通常是聚碳硅烷,PCS)混合,制成一定形状的素坯,然后在一定温度下裂解,这时PCS将转化为SiC,重复浸渍-裂解工艺以提高样品的致密度。

其优点是制备的反射镜坯体的最终密度以及加工过程可以控制,这就为镜坯的轻量化及后续加工提供了保障;该工艺过程简单,对设备要求不高;可以制备形状比较复杂的异形构件;裂解时温度低,材料制备过程中对C纤维造成的热损伤和机械损伤比较小。其缺点是由于高温裂解过程中有小分子溢出,材料的孔隙率高,很难制备出完全致密的材料;且从有机先驱体转化为无机陶瓷过程中材料体积收缩大,收缩产生的内应力不利于提高材料的性能;这种材料由于表面孔隙率较大,在表面进行CVD SiC涂覆前,必须进行致密化封孔[59]。另外,为了达到较高的致密度,该材料必须经过多次浸渗和高温处理,制备周期较长。

国防科技大学[60]在采用PIP法制备C/SiC反射镜方面已经进行了一系列的研究,目前已经制备出225mm×165mm的椭圆反射镜,表面涂覆CVD SiC抛光后表面粗糙度仅为0.372nm。

2.6化学气相渗积法(CVI)

化学气相渗积法是在纤维预成形体上通过化学气相反应沉积SiC基体来制备C/SiC复合材料的一种方法,它是目前商业化制备C/SiC复合材料的唯一方法。该方法的特点是可以实现近净尺寸成形。采用该法制备的C/SiC复合材料性能优异,可以实现功能梯度设计。缺点是制备的C/SiC复合材料致密度较低,只能用于镜坯材料,需要进行表面改性处理,而且工艺周期长,对设备要求高,目前这方面的工作仍处于探索阶段。

除了上述方法外,另外还有采用泡沫SiC作为反射镜镜坯[61~62]、POCO公司的C转化成SiC作为镜坯等[63~64]方法。但是不论采用何种方法制备镜坯,主要都是为了达到轻量化的目的。要达到真正的使用要求,必须对其表面进行适当的改性。

3 展 望

近年来,由于SiC其热变形量低、稳定性较好等优点,适合于空间光学系统的应用,是一种具有广阔前景的反射镜材料。但随着反射镜向轻量化(C/SiC复合材料作为镜坯)和大型化方向发展,要制备一个纯SiC的反射镜,仅依靠机械加工来获得较好的表面光洁度是比较困难的,因此,在镜坯表面涂覆一层涂层已越来越成为趋势和可能。目前,常用的方法是采用CVD法在镜坯表面沉积一层SiC涂层,抛光后能够获得较满意的表面光洁度。但是CVD法的工作温度过高、沉积速率慢、难以大型化和成本过高等缺点限制了CVD法的应用。要想彻底摆脱涂覆涂层这一道工序,必须解决以下两个方面的问题:一是寻找合适的烧结助剂,使得SiC镜坯能够完全烧结致密;二是通过开发新的连接技术,使得小尺寸的SiC材料能够成为大尺寸的SiC反射镜镜坯,实现SiC反射镜镜坯的大型化。如能解决以上两个问题,SiC材料用作反射镜镜坯必将实现质的飞跃。

参考文献

[1] 杨力. 先进光学制造技术[M].北京:科学出版社,2001,9.

[2] Pascal Antoine, and Michel Fruit. SiC Telescope Demonstrator

(Mirrors & Structures) Opto-Mechanical Performances[J]. Proc.

SPIE,1999, 3737: 418-429.

[3] 杨秉新. 空间相机用碳化硅(SiC)反射镜的研究[J]. 航天返回与

遥感,2003,24(1):15-18.

[4] 马文礼,沈忙作. 碳化硅轻型反射镜技术[J]. 光学精密工程,

1999,7(2):8-12.

[5] Prochazka S, Scanlan R M. Effect of boron and carbon on sintering of

SiC[J]. J Am Ceram Soc, 1975, 58(1~2): 72-75.

[6] 唐惠东,谭寿洪. PVD Si涂层用于SiC陶瓷的表面改性研究[J].

材料导报,2009,23(8):68-70.

[7] S. Williams,P. Deny. Overview of the production of sintered SiC

optics and optical sub-assemblies[J]. Proc. SPIE,2005,5868:

586804-1-586804-10.

[8] Michel Bougoin, Pierre Deny. The SiC Technology is ready

for the next generation of extremely large telescopes[J]. Proc.

SPIE, 2004, 5494: 9-18.

[9] D. Castel,et al. The monolithic SiC telescope of the Osiris Narrow

Angle Camera for the cometary mission Rosetta[J]. Proc. SPIE,

1999, 3785: 56-65.

[10] G. Uguen,et al. Design and development of the 2m resolution

camera for Rocsat-2. session 1[C]. Proceedings of 5th

International Conference on Space Optics(ICSO), Toulouse,

2004.

[11] D. Moran?揶ais,et al. Aladin: the first European Lidar in space.

session 1[C]. Proceedings of 5th International Conference on

Space Optics(ICSO),2004.

[12] Boёr M. ARAGO. A light robotic observatory for Dome-C[J].

Memorie Società Astronomica Italiana, 2003, 2(Suppl): 221-228.

[13] Fruit M, Antoine P et a1. Development of the SOFIA silicon

carbide secondary mirror[J]. Proc. SPIE, 2003, 4857: 247-251.

[14] P. Deny, M.Bougoin. Silicon carbide components for optics:

Present and near future capabilities[J]. Proc. SPIE, 2005,

5868: 58680G-1-58680G-11.

[15] Hitoshi Yamaoka, Tornoya Uiuga, Yoshiharu Sakurai et al.

Development and characterization of large x-ray mirrors for

high brilliance synchrotron radiation[J]. Proc. SPIE, 1993,

1997: 369-377.

[16] 黄政仁,谭寿洪,明等. 碳化硅材料的空间应用――轻量

化反射镜[C]. 中国空间材料科学学会空间材料专业委员会

2002学术交流会论文集,北海:空间材料专业委员会编,

2002:85-91.

[17] Popper P. The preparation of dense self-bonded silicon carbide[M].

Special Ceramics. London: Heywood, 1960.

[18] 唐惠东,谭寿洪. RB SiC陶瓷的表面改性[J]. 陶瓷学报,

2009,30(2):146-150.

[19] Tang H D, Huang Zh R, Tan Sh H. PVD SiC and PVD Si

coatings on RB SiC for surface modification[J]. Proc. SPIE,

2006, 6149: 61490A-1- 61490A-6.

[20] Kenneth J. Triebes,et al. Cryogenic optical performance of a

lightweighted 20-inch SiC mirror and indications for thermal

strain homogeneity and hysteresis[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 213-218.

[21] Mark A. Ealey and Gerald Q. Weaver. Developmental History

and Trends for Reaction Bonded Silicon Carbide Mirrors[J].

Proc. SPIE, 1996, 2857: 66-72.

[22] Mark A. Ealey and John A. Weliman. Ultralightweight Silicon

Carbide Mirror Design[J]. Proc. SPIE, 1996,2857: 73-77.

[23]Ealey M A. Fully active telescope[J]. Proc. SPIE, 2004, 5166: 19-26.

[24] Joseph Robichaud, Jay Schwartz, David Landry,et al. Recent

Advances in Reaction Bonded Silicon Carbide Optics and

Optical Systems[J]. Proc. SPIE, 2005, 5868: 586802-1-586802-7.

[25] Michael I. Anapol, Peter Hadfield, and Theodore Tucker. SiC

lightweight telescopes for advanced space applications 2.

structures technology[J]. Proc. SPIE, 1992, 1693: 296-303.

[26] Joseph Robichaud, James J. Guregian, Mark Schwalm. SiC

Optics for Earth Observing Applications[J]. Proc. SPIE, 2003,

5151: 53-62.

[27] Joseph Robichaud. SiC Optics for EUV, UV, and Visible

Space Missions. SPIE[J]. Proc,2003, 4854: 39-49.

[28] Michael I. Anapol and Richard R. Glasheen. Silicon carbide

lightweight telescopes for advanced space applications[J]. Proc.

SPIE, 1994, 2210: 373-382.

[29] Michael E. Curcio. Silicon carbide as a basis for spaceflight

optical systems[J]. Proc. SPIE, 1994, 2267: 98-106.

[30] A. Khounsary, P. Fernandez, L. Assoufid,et al. Design,

fabrication, and evaluation of an internally cooled silicon

carbide mirror[J]. Review of scientific instruments, 2002, 73(2):

1537-1540.

[31] Robert S. Breidenthal, Regina Galat-Skey, John J. Geany.

Optical surfacing of one-meter class reaction bonded silicon

carbide[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 248-253.

[32] John W. Pepi, and Thomas L. Altshuler. Thermal strain

characteristics of RBO silicon carbide to 4K and resultant

hysteresis[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 201-212.

[33] E. Tobin, M. Magida, S. Kishner and M. Krim. Design, Fab

rication, and Test of a Meter-Class Reaction Bonded SiC

Mirror Blank[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 12-21.

[34] Paul Robb, Roland Charpentie et al. Three mirror anastigmatic

telescope with a 60-cm aperture diameter and mirrors made of

silicon carbide[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 185-193.

[35] Paul Robb, Lynn Huff, Paul Forney,et al. Interferometric

measurements of silicon carbide mirrors at liquid helium

temperature[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 196-200.

[36] Paul Robb, Paul Forney, and Lynn Huff. Interferometric

measurements of silicon carbide and aluminum mirrors at

liquid helium temperature[J]. Proc. SPIE, 1997, 3122: 197-202.

[37] Yukari Y. Yui, Toshiyoshi Kimura, Yoshio Tange. High-

strength reaction-sintered SiC: a new candidate material for large space-borne telescope systems[J]. Proc. SPIE, 2004,

5570: 289-300.

[38] Katsuhiko Tsuno, Hiroshi Irikado, Kazuhiko Oono,et al. New-

Technology Silicon carbide (NT-SiC): demonstration of new

material for large lightweight optical mirror[C]. Proc. SPIE,

2005, 5659: 138-145.

[39] 张宇民,刘殿魁,韩杰才等. 光学反射镜结构材料优化研究[J].

哈尔滨工程大学学报,2001,22(6):78-82.

[40] ZHANG Y M, ZHANG J H, HAN J C,et al. Large-

scale fabrication of lightweight Si/SiC composite optical

mirror[J]. Mater. Lett., 2004, 58: 1204-1208.

[41] 郝寅雷. 反应烧结碳化硅质反射镜制备技术的研究[D].

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所学位论文.

[42] 范镝,张学军,张忠玉等. 反应烧结碳化硅平面反射镜的光学

加工[J]. 光学技术,2003,29(6):667-668,674.

[43] 范镝,张忠玉,牛海燕等. 反应烧结碳化硅球面反射镜的光学

加工与检测[J]. 光学技术,2004,30(1):6-8.

[44] 范镝,张忠玉,牛海燕等. 碳化硅光学镜面加工[J]. 硅

酸盐学报,2003,31(11):1096-1100.

[45] 徐清兰,伍凡,吴时彬等. 轻质碳化硅平面反射镜超光滑表面

加工[J]. 光电工程,2004,31(9):22-25.

[46] 佘继红,江东亮. 碳化硅陶瓷的发展与应用[J]. 陶瓷工程,

1998, 32(3):3-8.

[47] C.J.Shih, and A.Ezis. The Application of Hot-pressed

Silicon Carbide to Large High-Precision Optical

Structures[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 24-37.

[48] Michael Anapol, Leo Gardner, and Theodore Tucker,et al.

Lightweight 0.5 m silicon carbide telescope for a geo-

stationary earth observatory mission[J]. Proc. SPIE,

1995, 2543: 164-172.

[49] Dexter Wang and Michael Anapol. Ultra-lightweight

telescopes and precision pointers as enabling

technologies for small, low cost missions[J]. Proc.

SPIE, 1995, 2553: 246-252.

[50] Joseph Robichaud, Michael Anapol, and Leo Gardner,

etal. Ultralightweight off-axis three mirror

anastigmatic SiC visible telescope[J]. Proc. SPIE,

1995, 2543: 180-184.

[51] Michael Anapol, Richard Philippon, and Theodore

Tucker et al. Ultralightweight silicon carbide infrared

cryogenic telescope[J]. Proc. SPIE, 1995, 2543: 219-228.

[52] Joseph L. Robichaud and Michael Anapol. Thermallystable,

silicon carbide mirror material for synchrotron

x-ray beamline optics[J]. Proc. SPIE, 1996, 2855:147-152.

[53] Matthias Kr?idel. Cesic?R--ENGINEERING MATERIAL

FOR OPTICS AND STRUCTURES[J]. Proc. SPIE, 2005,

5868: 58680A-1-58680A-13.

[54] Jeffrey Boy, Matthias Kr?idel. CESIC?R LIGHT-

WEIGHT SiC COMPOSITE FOR OPTICS AND

STRUCTURES[J]. Proc. SPIE, 2005, 5868: 586807-1-

586807-6.

[55] TSUYOSHI OZAKI and MASAMI KUME. Pitch-based

carbon fiber reinforced SiC composites for space optics[J].

Adv. Composite Mater., 2003, 12(2-3): 185C203.

[56] T. Ozaki, M. Kume, T. Oshima,et al. Mechanical and

thermal performance of C/SiC composites for SPICA

mirror[J]. Proc. SPIE, 2004, 5494: 366-373.

[57] Keigo Enya, Takao Nakagawa, Hirokazu Kataza,et al.

Optical quality of C/SiC composite for the SPICA

telescope[J]. Proc. SPIE, 2004, 5487: 1092-1099.

[58] W. Kowbel, B. Safadi and J. C. Withers. Lightweight

C-SiC Composite Mirrors[J]. IEEE, 2003: 4-1699-4-1703.

[59] 张玉娣,张长瑞,周新贵等. 反应法制备SiC涂层组成与结构[J].

国防科技大学学报,2005,27(1):16-19.

[60] 张玉娣,周新贵,张长瑞. Cf/SiC陶瓷基复合材料的发展与应

用现状[J]. 材料工程,2005,4:60-63.

[61] Noboru Ebizuka, Yutang Dai, Hiroaki Eto,et al.

Development of SiC Ultra Light Mirror for Large Space

Telescope and for Extremely Huge Ground Based

Telescope[J]. Proc. SPIE, 2003, 4842: 329-334.

[62] Marc T. Jacoby and William A. Goodman Material

properties of silicon and silicon carbide foams[J]. Proc.

SPIE, 2005, 5868: 58680J-1-58680J-12.

[63] Ronald Plummer and Don Bray. Guidelines for Design

of Super SiC?R Silicon Carbide Mirror Substrates and

Precision Components[J]. Proc. SPIE, 2002, 4771: 265-275.

[64] John S. Johnson, Kevin Grobsky, Donald J Bray. Rapid

先进光学制造技术范文5

经过多年发展,我国印刷行业从设备制造到使用已经有了完整的工业基础,具有庞大的产业集群,如何在现有产业基础上进一步发展进步,成为印刷行业重点探索的问题之一。目前,数字印刷的核心技术垄断尚未被打破,在陶瓷喷墨印刷领域已经突显的高昂喷头成本问题已被广泛关注。而用于胶印制版的喷墨制版技术的出现,既充分利用了喷墨技术的材料适用范围广的特点,带来了新材料环保的优势,又保留使用了传统印刷机及胶印技术,发挥了原有工业基础成熟的高质量优势,通过二者的协同,实现了印前制版系统的环保升级,为印刷系统的环保变革带来了新契机。

喷墨制版技术的成像原理

传统制版是将光敏或热敏材料预先涂布在砂目化的亲水铝基表面,通过光照,对印版进行成像,光敏或热敏材料发生化学反应,印版表面形成图案的潜影,再通过对印版进行显影处理,最终形成用于上机印刷的印版。制版过程会形成HW16感光材料危险废液,对环境造成影响。

喷墨制版技术是通过喷墨的方式将特殊的纳米墨水直接打印至版基表面,从而实现图文的“塑造”,在版基表面形成图文区(亲油)、非图文区(亲水)的差异,经固化后形成用于上机印刷的印版。该技术省去了以往成像过程中的显影环节,简化了制版流程,消除了印版显影的污染。传统制版和喷墨制版的成像原理如图1所示。

喷墨制版技术的体系构成

喷墨制版技术是不同于感光成像的新兴技术,具有围绕喷墨的核心技术架构。喷墨制版系统包含高精度喷墨制版设备、纳米版材、纳米墨水和工艺控制,四位一体围绕喷墨制版需求特征展开,最终达到满足印刷适性的要求,结构关系如图2所示。

1.制版设备

专业设备是喷墨制版技术应用的平台,从功能模块上可划分为机械结构、运动控制、墨路系统和辅助系统4个部分,实现将纳米墨水精确打印在版材指定位置的功能。喷墨制版设备重点关注运动控制稳定性、喷墨墨滴落点(着纸)准确性、辅助功能易用性和人机交互友好性。

喷墨制版设备以喷射的单个墨滴为基本成像单元,通过墨滴铺展,叠加区域体现图文边界,将RIP后的网点信息转移到纳米版材上。墨点作为单个像素要有准确的位置和规整的形态。因此要求喷头的运动控制准确度高,运动误差小;打印驱动控制要兼顾墨水特性,使墨滴下落过程不拖尾,落地无散点,墨滴飞行和落地形态规整,近似圆形。

早期的喷墨制版设备大多使用市面上成熟的打印机进行改造,但是因为打印控制不匹配、机械结构受局限等,该类制版设备的打印速度和精度与制版需求相差甚远。目前较为先进的喷墨制版系统完全针对制版工艺要求设计,在版材定位、打印制版、运动衔接方面均有重大改善。目前国内相关产品的运动定位精度已达到微米级,印版套准精度达到10微米,已达到光学制版系统的控制水平。

随着喷头技术的快速发展,喷墨制版速度得到大幅提升,从初期的每小时制版几个对开张,到现在的每小时制版20~40对开张,甚至可以达到每小时近200张报业对开版的制版速度。输出精度也从初期的1440dpi提升到现在的2400dpi以上。

2.纳米版材

纳米版材是喷墨制版技术体系的核心材料。目前,常见的纳米版材分为砂目纳米版材和免砂目纳米版材。砂目纳米版材的生产工艺与传统版材类似,免砂目纳米版材采用全新的材料体系和生产工艺,以亲水的纳米材料为核心,代替传统胶印版材中砂目的亲水性作用,在胶印过程中作为非图文区使用。

免砂目纳米版材的生产流程为:基材清洗、烘干、涂布纳米层、烘干、裁切和包装。与现有版材生产过程相比,免砂目纳米版材的生产省去了铝基版电解、氧化、除灰、封孔等复杂工艺过程,因此不仅省水、省电、成本低,而且更为重要的是彻底杜绝了高纯度铝版基在电解、氧化过程中产生的大量废液污染及金属铝流失的污染。因此免砂目纳米版材具有良好的发展前景。

3.纳米墨水

纳米墨水是喷墨制版系统至关重要的一环,就印刷适性而言,其必须具备良好的印刷油墨亲和性能,能均匀地吸附和转移油墨,并且在印刷压力和温度下能够保证持久的耐印力;就喷墨形式而言,其除了必须具备优异的体系稳定性能以外,还必须与喷头腔体黏合材料、面板疏水材料等具有良好的兼容性;就图像的打印精度而言,其又必须与纳米版材匹配良好,在其表面形成墨滴的规整性沉积,进行适度而稳定的铺展,以得到锐利、精细的图像质量。

制版用纳米墨水采用超亲油和具有良好耐磨性的材料体系,通过将其制备成水基型、弱溶剂型或UV固化型墨水,使其可通过喷头进行功能材料打印,从而实现环保的增材式制版。为满足用户对印版高耐印力的要求,纳米墨水中可加入无机纳米粒子,使印版在印刷过程中具有良好的耐磨性。

4.工艺控制

工艺控制是喷墨制版体系控制的重要环节。喷墨制版设备根据墨水特性不同有运动速度、输出组合方式、喷墨控制的工艺,也有根据使用环境而调整的喷头保护、刮墨、准备动作与频率的工艺;根据纳米墨水与纳米版材表面能匹配特性,有印版数据线性化传递的工艺;根据电子文件和承印材料特性,有关于最佳加网类型、角度选择的印前工艺;根据纳米版材类型不同,还有印刷环节供水、供墨等使用及操作工艺。因此,在喷墨制版系统集成中,各环节工艺紧密相连,工艺控制是一项涉及到如何将操作系统调整和运用良好的关键技术。

喷墨制版技术存在的问题

虽然喷墨制版技术逐渐成熟,体系架构清晰完整,目前制版质量已能达到大多数普通印刷品制版使用要求,并且在性价比和环保性能上具有突出优势,但是喷墨制版技术仍存在诸多问题和不足:首先,虽然通过特殊加网技术的优化,喷墨制版技术的印刷质量可以满足普通印刷品的要求,但是仍然低于PS版和CTP版的印刷质量,在精细度和色彩表现上还未达到高端印刷品的要求,尤其与热敏制版技术仍有较大差距。其次,喷墨制版系统结构复杂且环环相扣,体系开发难度大,研发投入成本高,一般企业无法承受,这也在一定程度上制约了其发展速度。

喷墨制版技术的发展趋势

1.高速度,高精度

未来,随着喷头技术的高速发展,喷墨制版技术的精度和速度会有显著提升。大批量应用的工业级喷头已经从只有几百个喷嘴发展为集成数千个甚至上万个喷嘴,喷头最小喷墨量也从6pL、3pL发展为1.5pL甚至1pL。因此随着高速度、高精度集成化的工业级喷头的迅速发展,喷墨制版技术解决高精度问题将指日可待,并且可以在高精度的前提下进一步提升制版速度。

先进光学制造技术范文6

在外行走的人,总是希望自己的数码相机先进,再先进一些,惟恐遗漏旅途的精彩瞬间。可是你还记得摄影的初衷吗?把东西全都塞进取景框里,只是记录:让照片带着表情说话,那叫讲述。人群中总会出现一些特立独行的分子。当我们手捧精致小巧的数码照相机,流连于蓝天白云、青山碧水的美景时,会发现某人正手举一架上世纪风靡一时似乎名为“傻瓜”的笨家伙不亦乐乎,不要嘲笑他的迂腐与落伍;当我们将“摄影法典”谙熟于心,调整光圈、焦距、曝光度、拍摄角度以求最佳效果时,发现某人仅仅一个取景窗、一个快门就万事大吉,不要嘲笑他的轻率与外行:当我们将镜头锁定、丽江这些艺术家的朝圣地,发现某人对路边的花花草草、猫猫狗狗情有独钟,不要嘲笑他的肤浅与无知,他们就是LOMO族群!

他们是一群在城市中出生、成长起来的孩子,热衷于记录都市生活中的场景,他们用图片的方式写日记,无论白天或黑夜,他们不思考、不对焦,也不需要预先知道会在照片中得到什么,想拍就拍,拍完就走。他们的口号是:我LOMO,所以我快乐。空旷的蓝天中掠过的飞机,桌上的咖啡杯,酒吧里变幻灯光下的乐手,黄昏的公交车站,一只小猫爪,路人的孤单背影,阴暗的楼道,或者仅仅是一大片空白的墙面,错乱的交通标识……色彩光泽明丽或昏黄,光影线条模糊或尖利,LOMO照片,内容闪烁其词,引人揣测想象。

拍人物时,不拍他的全部,拍他的一部分或身上的某个物位,这样能激发人的想象;拍物品时,不要端正地举起相机,而将物品倾斜着装进取景器,这样看事物的角度很特别:拍室外的景色时,最好透过一个玻璃瓶子拍过去,这样整个世界会变得与平日不相同。大家都习以为常的视野,你偏要从镜子里拍过去,在这个左右对调的世界里,你能发现什么不一样的东西?你也喜欢自拍吗?那就别再拍傻乎乎的大头照了,就拍自己被太阳或灯光“拉得很长很长”的影子,效果最好。

重要的是,当你看到“一些打动你的东西”,或者你压根儿就没什么可拍的,只是有那么点儿感觉时,你下意识的第一个动作是掏出像手机、钱包一样永远随身携带的相机。

LOMO本身指苏联20世纪50年代的一款相机,对红、蓝、黄感光特别敏锐,色泽异常鲜艳。现在LOMO是指拍摄时的一种态度,随意捕捉,想拍就拍。不用在乎光圈、快门、不用追求角度、构图。就算拍出来的照片曝光过度或模糊不清,只要能吸引眼球,就是一个成功的作品。

对LOMO族来说,LOMO就是一种生活方式,LOMO自己,LOMO朋友,LOMO身边的一切。试着用镜头去捕捉生活中的每一刻,在胶片的记忆里留下永恒。抛开对焦、构图、光线,让随性带给我们惊喜,让你眼中最平常的事物和朋友们最原始的生活给你意想不到的奇迹。

追根溯源

也许对你来说,LOMO还是一个全新的名词,但它自诞生之日起就已经在全球的各个角落拥有了大批的拥护者。

与现今日益先进的摄影器材相比,LOMO相机可算得上是劣质产品――塑料质地的镜头,用打火机一烧便会化:会曝光,导致拍摄画面产生暗角;画面里的红色、蓝色、黄色效果特别鲜艳,令镜头中的世界显得如此不现实。

LOMO原是前苏联武装部队间谍用的低科技相机,在前苏联一个专门生产军事光学镜片的工厂“Leningradskoje Opitiko Mechanitscheskoje Objedinenie”(LOMO)开始研发一种小型、可随身携带的35毫米自动曝光旁轴低科技相机。由于初始应用领域特殊,使得它日夜均可以拍摄无须闪光。可随身携带的低科技最初是模仿莱卡的Minox,这种相机当时也不是很流行,没有光圈,而且成像质量不高,照片暗角比较大,是一台为了大众需求而制造的阳春傻瓜相机。

1991年,两位维也那美术学生沃尔夫冈施特兰晶格(Wolfgang Stranzinger)及马蒂亚斯菲格(Matthias Fiegl)在捷克度假时,在一家旧货店找到旧款LOMO,一时兴起买下了这当时已经几乎被淘汰的傻瓜胶片机,沃尔夫冈和马蒂亚斯在布拉格一边喝着酒,一边用他们随心所拍的方式一一从鼻梁拍、从屁股拍、从头顶拍――将布拉格尽收相机中。没想到,冲洗出后的照片效果让他们大吃一惊――绚烂的色彩,独特的暗角,甚至是违背“好照片”标准的模糊效果让他们沉醉不已。回到维也纳后,一场关于LOM0布拉格的展览更是搅动了年轻人心中敏感的好奇和追求的狂热。“不要想,尽管拍”,沃尔夫冈和马蒂亚斯随即提出了“即兴摄影”风格,和“Make lift with camera easier”的理念,颠覆了传统,让上世纪90年代初对“好”照片的固有评价显得呆板、落伍,于是Lomography诞生了。1996年,二人说服圣彼得堡当时的市长兼列宁格勒光学仪器工会总经理普丁(Putin),继续生产LOMO相机,这不仅对有益于他们的国家经济,也对促进艺术文化很重要。LOMO革命于是展开,LOMO相机的身价也由30美元涨到200多美元。镜头拉回18年后的上海,在用密密麻麻的LOMO照片装饰墙面、天花板、楼梯的Lomography旗舰店里,已届不惑之年的沃尔夫冈说起LOMO的发现之旅,依然说那是一个“Lucky Story”。

Lomography逐渐兴起

Lomographic热潮始于1982年圣彼得堡。LOMO生产商被要求生产大量间谍相机,造福人民之余亦苏维埃增光。

某阳光普照的早上,General Kornitzky把日本小型相机(Cosina CX-2)放在桌上,他的亲密战友Panfiloff(即LOMO苏联军事及光学制造厂之总监)细看此相机,技现它有清晰的镜头、极高的感光度及坚固的外壳。两位男士留意到它的特性和潜力,马上研究如何改善设计。希望能生产一部全功能全天候的相机,旨在让全苏联人民提供乐趣之馀亦用此纪录社会主义生活和祖国的光荣。最后,LOMO LC-A诞生了,百万部相机迅速售清。苏联、越南、古巴及东德人民于80年代开始也参与进来。

Lomography自2003年进入中国大陆,从无到有的发展,见证着中国Lomo文化的旺盛生命力。而当初Lomography国际社团成立之际仅凭经典的LC-A发展到现在拥有从多新潮Lomography机型的独一无二的影像组织,也告诉我们,Lomography文化在全世界的温度一直是如此高涨。除了自家研发的Colorsplash Camera,Flsheye Camera等,还有一系列重新打造的如Lubilel 166+,Diana F+等复古机器。Lomography不单继承Snap Shot的精华,Lomography亦通过与不同品牌,摄影组织之间的合作为LomograDher带来各种新视觉,新摄影的精神。

解析LOMO

LOMO,四个字母排列组合成一种相机的牌子,不尖端,却制造惊喜;一种生活方式,不高档,却风光无限;一种“Don’tthink,Just shot”的拍摄态度,不高傲,却随心所欲。

仿佛又一次从简单到复杂的轮回,LOMO滋生了这个城市时尚的触角,一群活跃而感性的年轻人为之疯狂。他们说:“LOMO就是Let Our lift be Magicand Open。”

相片就是LOMO的根本。没有什么比新鲜的LOMO相片感觉更美妙的了。想拍什么就拍什么,连续拍,不理会正统的摄影规矩,只讲究个人的随意性、真实性。也许你不认为这是艺术行为,只不过是青春期的情绪发泄。但是,你错了!这就是艺术,是一种新兴的摄影艺术!LOMO的宗旨就是要藉千千万万的SnapShots去纪录地球上的一事一物。LOMO一直都在寻找那自然的、即兴的美学。这是一种新的摄影取向,LOMO的态度解放了所有传统意念的追随者。

拍照原本是一种极具仪式感的体验,面对镜头,人们充满着忐忑与期待,不知道那个奇妙的魔盒里将会诞生什么。然而,数码相机的出现,让摄影彻底蜕变成了一个廉价的消遣。下一秒,你就可以在显示屏上看到照片的效果,如果不理想的话,那就马上删除重拍。

也许,当一件事情变得太容易,就不再有意思了。看似随意的LOMO却有一个极高的门槛,那就是拍摄者要富于想象力并且不怕麻烦,懂得欣赏过程的美妙。装胶卷,拍摄,冲底片,扫描,等等,其实非常挑战人的耐心。LOMO在当今社会重生的意义本就不在于其效率,而在于那种返璞归真、反潮流精神!

把简单的过程复杂化,把复杂的美学简单化,把不完美艺术化,还原与颠覆成就了一种世界性的地下艺术潮流。

LOMO在发散

目前,LOMO的总部设在维也纳,世界各地都有LOMO爱好者的社团,摄影活动、影展、聚会在不同的角落快乐地进行着。独特的镜头语言成就了LOMO至高无上的魅力。然而,技术和功能的多样性却并不是LOMO相机最吸引人的地方,相反,简单的操作和毫无规则的拍摄手法才是LOMO狂潮席卷全球的终极秘密。不用担心别人会笑话你的拍摄角度和画面布局,自由和随性才是LOMO风格的绝对体现。

LOMO的最初制造者怎么也不会想到,这个间谍机器茌几十年后的今天会成为令全世界疯狂的娱乐新宠。目前,LOMO相机已从最初的一款增加到几十款,用得比较多的有Colorsplash、Holga、Froqeye、“四眼”、“八眼”等等,它们大多是根据LOMOLC-A的几大特点演变而来。

SuperSampler可拍4格直下的连续动感照片,制造出4格漫画的效果;Colorspalsh内置了滤镜滚动条,可同时放入4张颜色滤镜,可以随意选择喜欢的闪灯颜色,不同的主题和闪灯颜色配合不同的外来光线和曝光时间,令照片更古灵精怪;Holga是LOMO相机中的“怪才”,焦点不实,色彩怪异,而且后盖不严,容易漏光,所以可以提供无限次的多重曝光,甚至提供了边缘朦胧甚至失光的缺陷艺术美以及数也数不清的创作可能。每一种都是玩家们的心头所爱,因为LOM0相机独特的成像效果不是后期处理得来的,而是拍完即有,类似PHOTOSHOP的图像处理软件对它根本毫无用处。

LOMO,玩的也是装备

LOMO相机的缺陷成为设计中的一部分,而通过放大缺陷可以使之达到新的审美程度。

如今这种粗糙的、毛病很多的古董相机将使更多人从传统摄影美学的窠臼中解脱出来。大家意识到,想要随意拍摄,不仅仅是傻瓜相机、数码相机,甚至手机、电脑摄像头,都可以LOMO我们的生活。以LOMO的精神生活,只要你不拒绝它,它绝对不会拒绝你。用它拍出的照片,也一定会让你的生活鲜艳起来。LOMO对于LOMO迷们来说不只是一种品牌的相机,那还是一种生活方式的标志,一种自由自在无拘无束的精神象征。

玩LOMO的人大多对它的成像原理不感兴趣。原因很简单:和所有相机一样,都是光和黑盒子的把戏。与目前成熟的数码摄影器材相比,LOMO相机的成像技术幼稚到可能连对焦都不准,曝光都不稳。照片甚至会出现摄影专业所谓的瑕疵――暗角。然而在LOMO人眼中,那却是一种独特的“隧道效果”。因此传统意义上的摄影技巧遇到LOMO都变成多余,要知道,有些型号的LOMO相机甚至连取景框都没有。

LOHO也娇俏

按性能分类

多格LOMO相机:

此类LOMO相机可以在一张底片上拍出来邮票一样整齐排列的多张照片,这样的LOMO相机最常用来拍摄连续的动作。此类相机主要包括动感四格、超级动感四格、八格、九格等。

彩色LOMO相机:

此类LOMO相机拍出来的照片就像是蒙上了不同颜色的透明彩纸,不同的场景用不同的颜色去表现,能够使照片更充分地体现摄影者当时的心情,此类相机主要包括Colorsplash和Diana F+。

特殊效果LOMO相机:

此类LOMO相机所拍摄的照片夸张、怪异,在笔者看来,它们更具娱乐性。此类相机主要包括用于拍摄夸张效果的鱼眼、用于拍摄多重曝光等特效的LC-A+,以及用于拍摄全景的Horizon。

按镜头分类

单镜头LOMO相机:

象LC-A+、鱼眼、公主日记、蛙眼相机、凤凰205、Diana F+、黄金眼、Holga、Horizon、Smena 8M、Colorsplash等都属于单镜头LOMO相机。

多镜头相机:

动感四格、超级动感四格、八格、九格,四格动画都属于多镜头LOMO相机。

双反相机:

海鸥4B、Lubitel 166+

不得不提的是

LC-A是LOMO运动的最正宗装备,被玩家亲切地称为小A。前些年国内的LOMO LC-A价格大约每台300元。现在一些拍卖网站上LOMoLC-A的标价已经为1800元左右,质量比较好的能卖到2400元,但仍然供不应求。

LC-A是一部小巧、自动的相机,但它简约的背后隐藏著极大的价值:32mm广角Minitar 1镜头,由Professor Radionor设计,在广角镜头下拍出鲜明的色彩。一般只出现于专业相机的自动感光功能,让LOMO在任何环境下部能使用,晚上更能创造突出的线条效果。坚固的外壳加上硬朗的金属结构及醉人的苏联风味。

LOMO户外配件

Hipshot腰包:从腰间拍照?也没什么不可以的。和LOMO相机所配套的腰包,可以放下你钟爱的各款相机,3卷胶片以及一些零碎物品。它由防水及耐磨材料制成,尤其适台户外活动时携带。

Colorsplash闪光灯:如果你喜欢经典的LC-A,又想要有Colorsplash的迷幻感觉,那就可以加一个Colorsplash闪光灯。内制的滤镜卷轴,可以同时放入4张颜色的滤镜。只要转动旁边的彩色轮就可以随意选择喜欢的

闪光灯颜色。有色闪光灯给照片带来独特的视觉效果,让你换种心情看世界。

谁人在LOMO?

LOMO随意自由的艺术理念很快流传开来,LOMO中国负责人李振华介绍说,这其中不少都是设计行业的人,学生因为乐于接受新鲜事物,所以成为LOM0族的重要群体。目前,国内也成立了数家LOMO专业网站,比较著名的有WWW.省略和lomounocn。这些网站都经常举行一些主题比赛,比如“face to LOMO”、“动感LOMO摄影大赛”、“LOMO狂欢节”等,同时也组织一些外出活动。阅读网站的帖子,可以大概了解LOMO族的生态。目前中国内地的LOMO族已经上百万,这批人以上世纪70年代和80年代出生的新新人类为主。

LOMO经验谈

1 由于拍摄的偶然性,冲印的时候一定要和店员反复强调,无论出来什么效果,我都要!不然会被洗印人员自作主张地放弃许多精彩作品。

Tips:北京LOMO冲冼哪里最便宜?Lomography合作冲洗店(北京)――今日时代图片社

2 玩LOMO的都是胶卷大户,最好找一个胶卷批发点,图点便宜货。如果你的朋友信奉“浪费是可耻的”,千万别拉他进LOMO队伍。

3 不用恶补摄影知识,LOMO相机不用调焦距,也不用理光圈,惟一的诀窍就是多拍。

4 LOMO作品没有优劣之分,只要能体现自己的思想,引起观者的共呜就成功了。为了表达一个主题和延续的思想,LOMO照片通常都成组出现。

5 稍微知道点LOM0的背景知识,也不妨碍你边走边拍。

总之,不是有了LOMO机就可以LOMO了。更不要为了LOMO而LOMO。

找乐误区

误区一:

只有那几款LOMO机才可以LOMO。

一直以来很多朋友都会问类似于这样的问题“我是新手,给我推荐款机子吧。”“我好喜欢LOMO的感觉,我用什么机子好呢?”且慢!选择机器固然重要,但也要先看看自己需要什么不是?

问自己几个问题:“是因为喜欢某种机型带来的特殊效果?”或者自己也搞不清到底是什么机型,甚至都还没搞清那是什么效果。

其实不只有LOMO官网上那几款机器可以玩LOMO,LOMO只不过是又一个被炒热且还在热的一个名词罢了。没这词之前,有LOMO精神的玩家一样玩的高兴,不LOMO的玩家拿着再LOMO的机子也不知所以。

所以,不只那几款LOMO机可以LOMO。

误区二:

用了LOMO机,就可以达到LOMO效果。

如果你被宣传广告上浓郁色彩,夸张的暗角和扭变所吸引进而觉得自己有了台LOMO机就一定也可以达到如此这般效果,那么很不幸,又错了。

除了那几台为了LOMO而LOMO的机器,那些手机的可以调节光圈、焦距什么的机子里面的学问就大了。别人能拍出来的东西,自己还真不一定能拍出来。怎么办?补课呗,找本摄影教材好好读读,阳光16法则先烂熟于心,最不济也要把胶卷盒子上的图例扫两眼吧?

然后,“举哑铃”防抖,“学樱木的杀人目光”来测光,“没事走两步”估焦。总之,勤练是没有错的。

所以,总之,不是有了LOMO机就可以LOMO了。更不要为了LOMO而LOMO。

LOMO日记――生活的独享者

LOM0日记――生活的独享者

表现意境:一个代表自由、独立的都市女性,在梦幻般的空间内游弋、漂浮……再现都市女性渴望独立、坚强却变换无定的生活情境。色彩艳丽,情节动感。

表现手法:使用特殊LOMO相机,成片后采用电影编辑手法,独创LOMO影像表现方式,具有老电影独特的视觉连续观看效果。

作品点评:

在整个作品中,作者大胆使用虚实结合的影像表现手法,突破了传统LOMO平面表现的束缚,你可以看到一个孤独的白领丽人有时在私密的卫生间梳妆镜上用口红写下鲜红的“I Love You”、有时又在深夜寂寥无人的十字路口茫然徘徊、抑或用一张凌乱暧昧的闺床暗示主人的慵懒生活……

作者用一种虚无流动的视觉语言准确的再现一个都市女性特立独行的时尚生活方式。

创意:石鼓路3号

摄影生命如歌

剪辑:暖暖

出品:艺术公园影像工作室