电子工业专用设备

电子工业专用设备杂志 部级期刊

Equipment for Electronic Products Manufacturing

基础信息
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 国际刊号:1004-4507
  • 国内刊号:62-1077/TN
  • 主编:葛劢翀
  • 出刊周期:双月刊
  • 出版地区:北京
  • 开本尺寸:A4
  • 创刊时间:1971
  • 语言种类:中文 
  • 复合影响因子:0.19
  • 订价:256.00元/年
  • 综合影响因子:0.3

期刊简介

    《电子工业专用设备》(月刊)创刊于1971年,是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办,中国电子专用设备工业协会会刊;是业内最具权威的国内外公开发行的国家级刊物。本刊为《中国科技论文统计》和《中国电子科技文摘》用刊,同时是《中国学术期刊(光盘版)》、中国期刊网、万方资源系统数字化期刊网及北极星网站全文收录期刊。是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物,多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。

收录、荣誉

收录情况:

知网收录(中)维普收录(中)万方收录(中)国家图书馆馆藏上海图书馆馆藏

期刊荣誉:

Caj-cd规范获奖期刊中国优秀期刊遴选数据库中国期刊全文数据库(CJFD)

主要栏目

先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养

部分目录

1、薄膜电容自动喷金机的研制钱立文;

2、环氧塑封料现状及发展趋势韩江龙;

3、基于标准棋盘格的图像校准方法李久芳;

4、光纤拉丝机一机两炉的设计改造刘立起;

5、浅述全自动高速塑封机的设计和实现梁国衡;

6、先进封装步进投影光刻机焦深研究章磊;周畅;

7、微电子表面贴装关键技术与装备张雍蓉;刘昊;

8、大角度离子注入机的束纯度控制王迪平;孙勇;

9、P/P+外延片制备过程中应力变化的研究索开南;

10、变速切割速度曲线对硅片翘曲度的影响马玉通;

11、双高斯复杂化结构显微物镜设计刘金荣;李玉敏;

12、一种用于电子装备的硅片传输机械手张世强;杨志;

13、健壮设计在专用设备研发中的应用杨树文;?海燕;

14、回归分析在电机冷却系统中的应用李朝军;牛伟光;

15、在线等离子清洗设备控制系统设计杨静;苗岱;刘畅;

16、模块化设计在半导体湿法清洗设备中的应用张雅丽;

17、碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响孙俭;

18、2012年上半年中国集成电路产业市场逆势增长刘臻;

19、化学腐蚀对超薄锗片机械强度的影响窦连水;刘晓伟;

20、CMP抛光机抛光台温度控制的研究王伟;王东辉;李伟;

21、单相交流调压电路触发角与负载的关系张红勇;周永清;

22、半导体专用设备的真空系统维修殷履文;刁振国;王振亚;

23、投影光刻机中PDP-11主控制计算机系统的替换曾美芹;

24、辐射探测器用高纯锗单晶技术研究刘锋;耿博耘;韩焕鹏;

25、接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例李霖;周庆奎;宫晨;

26、环氧塑封料产品设计对LQFP分层性能的影响周洪涛;王善学;

27、丝网印刷中几种印刷参数与印刷质量关系的研究邴守东;黄帅;

28、碳/碳复合材料应用于直拉硅单晶生长的研究王世援;韩焕鹏;刘锋;

29、0.5mm间距CSP/BGA器件无铅焊接工艺技术研究孙国清;李承虎;

30、从IC封装产品可靠性谈封装冲切模具优化设计蔺兴江;代赋;何文海;

文章要求

1、文章标题要简短,能概括中心思想,一般不超过20个汉字,必要时加副标题

2、正文应层次清楚,行文规范,方便阅读,字数一般以2500-8000字为宜,重要稿件可不受此限制

3、题目下面均应写作者姓名、单位名称、所在城市、邮编,多位作者分别列出上述信息

4、来稿必须附有100-300字的内容摘要和3-5个关键词

5、如文章获得基金项目资助,以[基金项目]作为标识,并注明基金项目名称和编号

6、正文中图表主要是文字难以表达清楚的内容,图表应设计合理,先后分别给出图表序号

7、来稿请注明姓名、性别、籍贯、出生年月、学历、职称、工作单位、联系电话、详细邮寄地址

8、编辑部有权对稿件进行修删,不同意请在稿件中声明

9、请勿一稿多投,发现一稿多投者,一切不良后果由作者承担

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