Equipment for Electronic Products Manufacturing
《电子工业专用设备》(月刊)创刊于1971年,是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办,中国电子专用设备工业协会会刊;是业内最具权威的国内外公开发行的国家级刊物。本刊为《中国科技论文统计》和《中国电子科技文摘》用刊,同时是《中国学术期刊(光盘版)》、中国期刊网、万方资源系统数字化期刊网及北极星网站全文收录期刊。是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物,多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。
先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养
1、薄膜电容自动喷金机的研制钱立文;
2、环氧塑封料现状及发展趋势韩江龙;
3、基于标准棋盘格的图像校准方法李久芳;
4、光纤拉丝机一机两炉的设计改造刘立起;
5、浅述全自动高速塑封机的设计和实现梁国衡;
6、先进封装步进投影光刻机焦深研究章磊;周畅;
7、微电子表面贴装关键技术与装备张雍蓉;刘昊;
8、大角度离子注入机的束纯度控制王迪平;孙勇;
9、P/P+外延片制备过程中应力变化的研究索开南;
10、变速切割速度曲线对硅片翘曲度的影响马玉通;
11、双高斯复杂化结构显微物镜设计刘金荣;李玉敏;
12、一种用于电子装备的硅片传输机械手张世强;杨志;
13、健壮设计在专用设备研发中的应用杨树文;?海燕;
14、回归分析在电机冷却系统中的应用李朝军;牛伟光;
15、在线等离子清洗设备控制系统设计杨静;苗岱;刘畅;
16、模块化设计在半导体湿法清洗设备中的应用张雅丽;
17、碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响孙俭;
18、2012年上半年中国集成电路产业市场逆势增长刘臻;
19、化学腐蚀对超薄锗片机械强度的影响窦连水;刘晓伟;
20、CMP抛光机抛光台温度控制的研究王伟;王东辉;李伟;
21、单相交流调压电路触发角与负载的关系张红勇;周永清;
22、半导体专用设备的真空系统维修殷履文;刁振国;王振亚;
23、投影光刻机中PDP-11主控制计算机系统的替换曾美芹;
24、辐射探测器用高纯锗单晶技术研究刘锋;耿博耘;韩焕鹏;
25、接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例李霖;周庆奎;宫晨;
26、环氧塑封料产品设计对LQFP分层性能的影响周洪涛;王善学;
27、丝网印刷中几种印刷参数与印刷质量关系的研究邴守东;黄帅;
28、碳/碳复合材料应用于直拉硅单晶生长的研究王世援;韩焕鹏;刘锋;
29、0.5mm间距CSP/BGA器件无铅焊接工艺技术研究孙国清;李承虎;
30、从IC封装产品可靠性谈封装冲切模具优化设计蔺兴江;代赋;何文海;
1、文章标题要简短,能概括中心思想,一般不超过20个汉字,必要时加副标题
2、正文应层次清楚,行文规范,方便阅读,字数一般以2500-8000字为宜,重要稿件可不受此限制
3、题目下面均应写作者姓名、单位名称、所在城市、邮编,多位作者分别列出上述信息
4、来稿必须附有100-300字的内容摘要和3-5个关键词
5、如文章获得基金项目资助,以[基金项目]作为标识,并注明基金项目名称和编号
6、正文中图表主要是文字难以表达清楚的内容,图表应设计合理,先后分别给出图表序号
7、来稿请注明姓名、性别、籍贯、出生年月、学历、职称、工作单位、联系电话、详细邮寄地址
8、编辑部有权对稿件进行修删,不同意请在稿件中声明
9、请勿一稿多投,发现一稿多投者,一切不良后果由作者承担
10、若不能被录用,恕不退稿,请作者自留底稿,不同意上述稿件处理方式的作者请转投他刊
11、本站并非电子工业专用设备杂志社和电子工业专用设备编辑部官方网站
地 址:北京市朝阳区安贞西里26号浙江大厦913室
邮政编码:100029
若用户需要出版服务,请联系出版商,地址:北京市朝阳区安贞西里26号浙江大厦913室,邮编:100029。